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[资源] Acc. Chem. Res.最新文章:CVD法可控生长寡层石墨烯用于电子器件

最新一期的Acc. Chem. Res.杂志发表了题为Controllable Chemical Vapor Deposition Growth of Few Layer Graphene for Electronic Devices的文章。文章着眼于石墨烯的化学气相沉积的合成方法,探讨了化学气相沉积的可控性和在电子器件方面的应用。文章10页,引文42篇。




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gcsybruce

新虫 (初入文坛)


★★★★★ 五星级,优秀推荐

ACS又上不去了...感谢分享
54楼2013-03-03 11:08:16
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吴力

银虫 (小有名气)


★★★★★ 五星级,优秀推荐

xiejf: 取消置顶 2012-07-20 13:48:41
顶一下,你是搞石墨烯的吧!最新的有关石墨烯方向的研究有哪些,能交流一下
2楼2012-07-20 10:15:32
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简单回复
2012-07-20 11:51   回复  
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dwkong4楼
2012-07-20 12:17   回复  
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w_wwb5楼
2012-07-20 12:58   回复  
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瞬~6楼
2012-07-20 14:10   回复  
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kobe24mvp8楼
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fmbs1109楼
2012-07-20 18:00   回复  
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love_kobe10楼
2012-07-20 18:17   回复  
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liuzhun16811楼
2012-07-20 23:49   回复  
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2012-07-21 00:39   回复  
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wangjilin13楼
2012-07-21 00:49   回复  
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2012-07-21 01:04   回复  
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