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[资源] Acc. Chem. Res.最新文章:CVD法可控生长寡层石墨烯用于电子器件

最新一期的Acc. Chem. Res.杂志发表了题为Controllable Chemical Vapor Deposition Growth of Few Layer Graphene for Electronic Devices的文章。文章着眼于石墨烯的化学气相沉积的合成方法,探讨了化学气相沉积的可控性和在电子器件方面的应用。文章10页,引文42篇。




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吴力

银虫 (小有名气)


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xiejf: 取消置顶 2012-07-20 13:48:41
顶一下,你是搞石墨烯的吧!最新的有关石墨烯方向的研究有哪些,能交流一下
2楼2012-07-20 10:15:32
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wchj689

至尊木虫 (知名作家)


★★★★★ 五星级,优秀推荐

更值得学习!
15楼2012-07-21 10:49:26
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herowds

银虫 (正式写手)


★★★★★ 五星级,优秀推荐

好人啊
27楼2012-07-25 00:17:48
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2012-07-20 11:51   回复  
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dwkong4楼
2012-07-20 12:17   回复  
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w_wwb5楼
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瞬~6楼
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kobe24mvp8楼
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fmbs1109楼
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liuzhun16811楼
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wangjilin13楼
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wlf198216楼
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kongluo00118楼
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yuping050320楼
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guard587322楼
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yf.li25楼
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chx42928楼
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deanfeng29楼
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nantian11230楼
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bazhuayuyu32楼
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