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lwjonly

金虫 (正式写手)

[交流] 求助:SEM取向成像电子显微分析系统(OMI/EBSP)所需试样的制备

OIM/EBSP分辨率达1300×1024以上,灰度4096,角度分辨率达0.5°以上,用来采集和分析扫描电镜中的电子背散射衍射花样,相鉴定数据库包揽七大晶系。但其对试样的要求很高,特别是试样表面应没有应力,所以向高手求教试样的制备。不胜感谢!
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lwjonly

金虫 (正式写手)

sijun你好
能否讲的详细一些。因为不同的材料电解抛光时的工艺参数不一样。
我做的是在金属陶瓷基体上沉积Ti-Si-N涂层,所需的工艺参数如:电解液的成分、电压、电流、温度、电解时间等的确定。敬请你能在百忙之中给与指导。
非常感谢!
4楼2007-05-16 11:46:11
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sijun

至尊木虫 (著名写手)

★ ★
luo.henry(金币+2):谢谢热心参与问题解答!
首先按照制备金相样品的步骤用砂纸磨,由粗到细,磨好后电解抛光,去除样品表面应变层,并且表面光亮,就可以去做EBSD了。
2楼2007-05-14 16:19:18
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sijun

至尊木虫 (著名写手)

对你这种陶瓷涂层不是很了解,如果导电的话,可以采用电解抛光工艺,如果不导电,就得另想他法了。
若可以采用电解抛光,电解液的选择也是一个问题,因为不了解你这种材料,所以也不能给出有效的建议。不知你有没有做过这种材料的双喷,若做过,采用那种电解液就可以了。至于电流、电压、温度等你可以参照双喷时的参数,在实验中找出合适的参数。
5楼2007-05-16 12:53:22
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航航

银虫 (小有名气)

金属陶瓷基体上沉积Ti-Si-N涂层

沉积的直接做EBSD试一试,

不适合电解抛光,
6楼2007-05-21 13:04:12
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