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jufayin

至尊木虫 (文坛精英)

[求助] Pttern制作

问下问题：
1、怎么刻蚀Pattern： **微米X***nm
2、刻蚀 Si3N4 :  Depth 300 nm
即： Pattern    length 400um X width 400nm X Higth 40 nm
FIB 应该可以实现  但是FIB 可以刻4inch Si 片不？
还有没有别的方法？  怎么实现？
谢谢
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大家一起共同进步
1楼 2012-07-09 15:55:35
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haerbin06

铜虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
jufayin: 金币+5, ★★★★★最佳答案 2012-07-11 10:16:50
EB Drawing, 直写掩模板就可以了,不知道国内的设备带这个功能不....
Si3N4一般是热生长得到的, 厚度不是问题,,你的最小线宽是nm级别的,所以不能用掩模板曝光方法,只能用直写,完全够你的精度,,,一般来事几十nm不成问题
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我很好
2楼2012-07-09 16:55:03
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wonderrunner

铁杆木虫 (正式写手)

华东理工 环境科学与工程

【答案】应助回帖

纠正一下标题，是pattern制作
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Science.is.beautiful.
3楼2012-07-16 15:43:39
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

FIB太慢了，如果样品少的话，就像楼上说的，可以同电子束光刻。或者是用激光直写，能便宜些。或者事用接触式光刻中的衍射光刻，国内只有南大有一台机器。
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4楼2012-09-19 13:50:48
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