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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 硅片表面修饰的表征手段
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sparkling6

金虫 (初入文坛)

[求助] 硅片表面修饰的表征手段

我想在二氧化硅表面修饰一层抗体，先用piranha溶液长一层羟基，然后用APTES氨基硅烷化，接着上戊二醛，最后是点抗体。之前是把上面的过程全部完成后再用ELISA试剂盒检测固定效果，但是这样太费抗体了。想看看有没有其他方法可以对处理的每一步分别进行表征。
因为是单纯的硅片，没有电极，所以没法做循环伏安（应该是不行的吧？）；看了一下其他的很多仪器实验室都没有，要出去联系其他实验室测，不知道应该找有什么仪器的实验室呢？
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1楼 2012-07-09 10:19:11
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鹰羽龙

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
这要取决于你想要什么表征结果啊，表面分析的手段很多，XPS, EELS, STM等等太多了。。。
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2楼2012-07-09 15:51:36
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sparkling6

金虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 鹰羽龙 at 2012-07-09 15:51:36
这要取决于你想要什么表征结果啊，表面分析的手段很多，XPS, EELS, STM等等太多了。。。

想要看到每一步的效果啊，比如羟基是否生长上去了，分布是否均匀
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3楼2012-07-09 16:27:22
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大智若愚0629

新虫 (初入文坛)
楼主还在嘛

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4楼2017-02-27 12:47:42
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大智若愚0629

新虫 (初入文坛)
想知道你在二氧化硅表面修饰反应有没有合成上去，具体反应条件

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5楼2017-02-27 12:48:15
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