应《网络安全法》要求，自2017年10月1日起，未进行实名认证将不得使用互联网跟帖服务。为保障您的帐号能够正常使用，请尽快对帐号进行手机号验证，感谢您的理解与支持！

24小时热门版块排行榜    

小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 性能应用 » 通过怎样参杂使得二氧化硅薄膜的折射率在1.440--1.445之间
51/1返回列表
查看: 2225  |  回复: 6
只看楼主 @他人 存档 新回复提醒 (忽略) 收藏    在APP中查看
本帖产生 1 个 MN-EPI ，点击这里进行查看
当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖

楼1970-01-01 08:00:00
已阅   申请MN-EPI   回复此楼   编辑   查看我的主页

智能机器人

Robot (super robot)

我们都爱小木虫

找到一些相关的精华帖子，希望有用哦~

科研从小木虫开始，人人为我，我为人人

semi-white

铁杆木虫 (著名写手)

Pay first, then get.

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
liyongyanyu: 金币+50, ★★★很有帮助 2012-07-06 14:40:10
tt.yao: MN-EPI+1 2012-07-13 08:14:40
不掺的话应该是1.46吧，介电常数=折射率的平方，降低折射率的话应该降低介电常数，总之是让SiO2变得不绝缘一些，应该p型或n型掺杂都可以
赞一下 回复此楼
3楼2012-07-06 10:50:38
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
查看全部 7 个回答

yankeevt

禁虫 (初入文坛)
感谢参与，应助指数 +1
本帖内容被屏蔽
2楼2012-07-06 10:30:25
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

semi-white

铁杆木虫 (著名写手)

Pay first, then get.
引用回帖:
3楼: Originally posted by semi-white at 2012-07-06 10:50:38
不掺的话应该是1.46吧，介电常数=折射率的平方，降低折射率的话应该降低介电常数，总之是让SiO2变得不绝缘一些，应该p型或n型掺杂都可以

哥们好豪爽，谢谢~~不过关于降低介电常数，掺杂或许不是上佳之选，有人用阵列空隙结构的SiO2(空气介电常数为1)可以获得低介电常数的氧化硅膜
赞一下 回复此楼
4楼2012-07-06 16:38:54
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

liyongyanyu

新虫 (小有名气)
引用回帖:
4楼: Originally posted by semi-white at 2012-07-06 16:38:54
哥们好豪爽，谢谢~~不过关于降低介电常数，掺杂或许不是上佳之选，有人用阵列空隙结构的SiO2(空气介电常数为1)可以获得低介电常数的氧化硅膜...

我主要是想通过溶胶凝胶法来做，就是想知道如何来控制二氧化硅薄膜的折射率在1.440--1.445之间，当然可以掺杂，也可以不掺杂。那你知道具体不掺杂做出什么样的效果吗？有没有相关的工艺参数
赞一下 回复此楼
5楼2012-07-06 17:43:45
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
查看全部 7 个回答
普通表情 龙 兔 虎 猫
信息提示
关闭
请填处理意见
关闭