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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 性能应用 » 通过怎样参杂使得二氧化硅薄膜的折射率在1.440--1.445之间
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楼1970-01-01 08:00:00
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liyongyanyu

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引用回帖:
4楼: Originally posted by semi-white at 2012-07-06 16:38:54
哥们好豪爽，谢谢~~不过关于降低介电常数，掺杂或许不是上佳之选，有人用阵列空隙结构的SiO2(空气介电常数为1)可以获得低介电常数的氧化硅膜...

我主要是想通过溶胶凝胶法来做，就是想知道如何来控制二氧化硅薄膜的折射率在1.440--1.445之间，当然可以掺杂，也可以不掺杂。那你知道具体不掺杂做出什么样的效果吗？有没有相关的工艺参数
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5楼2012-07-06 17:43:45
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yankeevt

禁虫 (初入文坛)
感谢参与，应助指数 +1
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2楼2012-07-06 10:30:25
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semi-white

铁杆木虫 (著名写手)

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liyongyanyu: 金币+50, ★★★很有帮助 2012-07-06 14:40:10
tt.yao: MN-EPI+1 2012-07-13 08:14:40
不掺的话应该是1.46吧，介电常数=折射率的平方，降低折射率的话应该降低介电常数，总之是让SiO2变得不绝缘一些，应该p型或n型掺杂都可以
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3楼2012-07-06 10:50:38
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semi-white

铁杆木虫 (著名写手)

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引用回帖:
3楼: Originally posted by semi-white at 2012-07-06 10:50:38
不掺的话应该是1.46吧，介电常数=折射率的平方，降低折射率的话应该降低介电常数，总之是让SiO2变得不绝缘一些，应该p型或n型掺杂都可以

哥们好豪爽，谢谢~~不过关于降低介电常数，掺杂或许不是上佳之选，有人用阵列空隙结构的SiO2(空气介电常数为1)可以获得低介电常数的氧化硅膜
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4楼2012-07-06 16:38:54
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