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wcjhit

木虫 (正式写手)

[求助] XPS逐层刻蚀数据分析?

附件中是纯镍材料表层逐层刻蚀分析的数据,主要分析表面氧化层的厚度。随着刻蚀深度的增加,图谱更加复杂,本来我认为应该会简单化,图谱上只有单质镍的图谱才对。还有就是全图谱也很复杂,按说纯金属的话全图谱和镍的图谱应该不会差别很大才对。请问是什么原因?还有如何从时间上判断刻蚀深度?谢谢!本人菜鸟,是在困惑!
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  • 附件 1 : 1050摄氏度热处理逐层分析原始数据.xls
  • 2012-07-02 20:52:02, 4.32 M

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zuozhijun5134

至尊木虫 (文坛精英)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
wcjhit: 金币+10, ★★★很有帮助 2012-07-06 16:32:57
按说纯金属的话全图谱和镍的图谱应该不会差别很大才对。请问是什么原因

你的谱图差别大使因为刚开始Ni峰比较弱,所以他的其他峰包括俄歇峰都不明显,但是随着深度增加,Ni峰明显,那么其他峰和Ni的俄歇峰就增加了。这个是很正常的
4楼2012-07-06 11:41:54
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wcjhit

木虫 (正式写手)

麻烦各位了!谢谢
2楼2012-07-05 07:20:41
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stone2009

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
wcjhit: 金币+10, ★★★很有帮助 2012-07-06 16:32:39
XPS的氩离子刻蚀过程中会对氧化物形成还原作用,随着时间增加越发明显,图谱复杂的原因可能是表面氧化层还原形成了中间的氧化态。
至于时间上判断刻蚀深度不太好判断,跟刻蚀的束流等,不同样品等有关系,不同样品硬度也不同。较为准确的方法应该是结合SEM断面来确定刻蚀速度...
3楼2012-07-06 10:56:18
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zuozhijun5134

至尊木虫 (文坛精英)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
wcjhit: 金币+5, ★有帮助 2012-07-06 16:33:12
刻蚀深度与刻蚀时候的条件有关,你问问操作人员,有公式可以转换的
5楼2012-07-06 11:43:35
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