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hbc1234木虫 (小有名气)
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薄膜样品放置一年多后，PL谱出现416nm与438nm双峰，请大家分析原因
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上传图片为在Si基片上利用磁控溅射生长的La掺杂的HfO薄膜，镀好后放置了一年多．最近在做PL谱的时候发现了416nm与438nm的双峰（Xe灯为激发源，280nm），请问有谁知道这两个峰的来源？ 这两个峰在放置两年的ZnO薄膜上也出现过，而且该ZnO膜经过氨水刻蚀之后，双峰消失，因此我猜测是长期放置造成的，我只是想知道其具体的来源，是表面缺陷、杂质、还是潮解？发上来就是想看看有没有人见过这样的现象  HfO-La-PL [ Last edited by hbc1234 on 2012-5-4 at 23:03 ] |
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