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关于ZIF孔道内填充金属粒子的问题
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2012-04-01 00:19:18
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2012-04-01 13:24:10
以前在学校看到文献报道过,首先采用化学气相沉积法,之后采用氢气进行还原。
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2012-04-01 13:21:57
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3楼
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Originally posted by
surpassfish
at 2012-04-01 13:23:53:
你说的化学气相沉积法是怎样?能不能说得详细一点?
毕业了,文献不方便找。大致是这个样子:在一个腔体中,放入ZIFs和金属有机化合物(比如二茂铁,容易挥发);抽真空;之后加热让金属有机化合物沉积到孔洞中;最后氢气还原。你找找应该可以找到相关文献的!
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2012-04-01 13:32:35
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2012-04-01 18:29:06
在分子筛的制备过程中引入这些金属离子,可能是一种比较有效的方法,就是不知道楼主是做材料合成的还是对ZIF进行改性的呢?
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5楼
2012-04-01 15:27:25
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surpassfish
at 2012-04-01 18:28:38:
算是改性吧 向已经合成好的ZIF中填充金属
哦,那我说的方法好像不适用哎,可以采用过量浸渍的方法,在相对较高的温度下,比如说离子交换的温度80℃下,采用金属离子的前驱体,在过量水的情况下,进行离子交换,应该比较适合~
还有就是对于分子筛而言,高硅铝比分子筛一般是疏水性的,只有低硅铝比的分子筛才是亲水性的
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8楼
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theseachem
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毕业了,文献不方便找。大致是这个样子:在一个腔体中,放入ZIFs和金属有机化合物(比如二茂铁,容易挥发);抽真空;之后加热让金属有机化合物沉积到孔洞中;最后氢气还原。你找找应该可以找到相关文献的!
你好,你所说的氢气还原温度大概在多少度呢,如果高于二茂铁的升华温度,二茂铁能否又从孔道中挥发出来呢?非常期待你的回复
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9楼
2012-04-11 16:21:53
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wangjingouc
at 2012-04-11 16:21:53:
你好,你所说的氢气还原温度大概在多少度呢,如果高于二茂铁的升华温度,二茂铁能否又从孔道中挥发出来呢?非常期待你的回复
你好,实在不好意思,毕业快一年了,相关文献找不到了。在学校的时候只是看到过这样的文献,没有深入研究。你查查应该可以找到相关文献的。
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