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半导体薄膜制备及加工技术实验室
磁控溅射、电子束蒸镀制备金属薄膜Au,Ag,Al,Cu,Cr,Fe,Mo,Ni,非金属薄膜Al2O3,AZO,ITO,Si,SiO2,Si3N4,ZnO；IBE、RIE、WE刻蚀加工
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foxs2

木虫 (文坛精英)

[商家供应] 溅射 蒸镀 IBE RIE

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可以进行 磁 控 溅 射、电 子 束 蒸 镀、LPCVD镀膜加工，材料包括Si, SiO2, Si3N4, ZnO, Al2O3, Al, Ag, Au, Cu, Cr, Mo等，厚度一般在15-1000nm。
提供IBE、RIE刻蚀服务，可刻蚀各种金属、非金属材料。IBE深度一般不大于1000nm，RIE深度不大于3000nm。
赵工 zyy44138172@126.com    壹伍壹零捌贰玖玖捌壹陆

[ Last edited by foxs2 on 2016-1-19 at 15:24 ]
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1楼2012-03-17 15:17:39
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Ivan_ye

金虫 (正式写手)
RIE=反应离子刻蚀？
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72楼2012-11-30 16:46:00
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lwb27888268
★
foxs2(金币+1): 谢谢参与
顶一下
4楼2012-03-17 18:03:06
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