磁控溅射、电子束蒸镀制备金属薄膜Au,Ag,Al,Cu,Cr,Fe,Mo,Ni,非金属薄膜Al2O3,AZO,ITO,Si,SiO2,Si3N4,ZnO;IBE、RIE、WE刻蚀加工
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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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foxs2

木虫 (文坛精英)

[商家供应] 溅射 蒸镀 IBE RIE

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内容

可以进行 磁 控 溅 射、电 子 束 蒸 镀、LPCVD镀膜加工,材料包括Si, SiO2, Si3N4, ZnO, Al2O3, Al, Ag, Au, Cu, Cr, Mo等,厚度一般在15-1000nm。
提供IBE、RIE刻蚀服务,可刻蚀各种金属、非金属材料。IBE深度一般不大于1000nm,RIE深度不大于3000nm。
赵工 zyy44138172@126.com    壹伍壹零捌贰玖玖捌壹陆

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