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foxs2
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溅射 蒸镀 IBE RIE
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可以进行 磁 控 溅 射、电 子 束 蒸 镀、LPCVD镀膜加工，材料包括Si, SiO2, Si3N4, ZnO, Al2O3, Al, Ag, Au, Cu, Cr, Mo等，厚度一般在15-1000nm。 提供IBE、RIE刻蚀服务，可刻蚀各种金属、非金属材料。IBE深度一般不大于1000nm，RIE深度不大于3000nm。 赵工 zyy44138172@126.com 壹伍壹零捌贰玖玖捌壹陆 [ Last edited by foxs2 on 2016-1-19 at 15:24 ] |
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2楼2012-03-17 17:24:47
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3楼2012-03-17 17:36:07
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5楼2012-03-17 18:13:10
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9楼2012-03-17 18:32:01
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10楼2012-03-17 18:33:24
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