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永远爱家的YY金虫 (小有名气)
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如何采用俄歇电子进行成分深度分析？是否会破坏试样？对试样有什么特别的要求吗？
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我的试样是被氧化了的涂层试样，想知道氧化层的成分分布。我看到有的文献中采用的是俄歇电子进行测试的。采用俄歇电子进行测试的时候，电子是从涂层的表面往下打，还是像做EDS线扫描一样，需要先制备涂层的截面试样呢？ 还需要对试样进行什么特别的处理吗？这样的测试会不会对试样造成破坏？ 另外，我看文献中，用俄歇电子测量的成分深度分析时，涂层都是纳米级别的。而且刻蚀的时间很长，都要一两百分钟的。现在我要看的涂层氧化层的厚度是10微米左右，会不会超过俄歇电子的测试范围呀？ 求高人指点~~~~小妹不胜感激！ |
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 表征与测试分析 | 铁电材料 |
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2楼2012-03-06 18:30:00
【答案】应助回帖
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俄歇电子谱可以做深度分析。是通过Ar离子溅射掉一层氧化物，然后再进行俄歇信号采集，溅射掉氧化物的厚度与溅射时间有关。由于俄歇本身的探测深度很浅，一般是再几个纳米深左右，所以可以这样逐层分析。但是氧化膜不能太厚（几十个到几百个纳米为宜，不宜再大），氧化膜太厚的话，需要溅射的时间和俄歇信号采集的次数越多，费用往往比较昂贵。 希望对你有帮助。 |
3楼2012-03-06 20:25:38
4楼2012-03-06 20:47:57
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6楼2012-03-07 08:50:39
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8楼2012-03-11 12:53:24
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