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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 金属 » 测试表征 » 如何采用俄歇电子进行成分深度分析？是否会破坏试样？对试样有什么特别的要求吗？
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zhuzhuyaya

木虫 (小有名气)

科研屌丝

【答案】应助回帖

★
毛猴(金币+1): 感谢交流！ 2012-03-14 09:16:36
溅射的快慢还要看涂层材料，像碳膜就很慢。
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11楼2012-03-14 09:00:05
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phxwxl

铁虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
你的试样明显太厚了，应该离子减薄以后再做，一般要求一微米以下，太厚了对离子枪有损害人家不愿意做。再有就是不会破坏样品，只是有一个区域被溅射掉了
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12楼2012-04-02 09:56:00
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yaoshw

铜虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by josiahimr at 2012-03-06 20:25:38
俄歇电子谱可以做深度分析。是通过Ar离子溅射掉一层氧化物，然后再进行俄歇信号采集，溅射掉氧化物的厚度与溅射时间有关。由于俄歇本身的探测深度很浅，一般是再几个纳米深左右，所以可以这样逐层分析。但是氧化膜不 ...

您好，请问哪里可以做俄歇电子。我也有个样品想测量氧化膜厚度，大概几十nm。
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13楼2014-08-27 15:59:53
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