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qinkaiqiang

木虫 (小有名气)

[求助] 用化学抛光方法抛光铜片

本人用CVD方法在铜片上原位生长CNTs,必须先将铜片抛光,由于铜片的厚度只有3mm,机械抛光方法有点困难,不知道能不能用化学抛光的方法将铜片抛光,具体的操作步骤是什么?请诸位指点!!!
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peterflyer

木虫之王 (文学泰斗)

peterflyer


引用回帖:
3楼: Originally posted by 风华@正茂 at 2012-03-05 17:24:53
用5gFeCl3+10mlHCl+100mlH2O配置溶液,根据需要情况浸泡铜片或者用脱脂棉蘸取溶液擦拭表面至满意为止,我用的效果还不错

电流电压参数又为几何呢?
9楼2013-11-09 09:56:08
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查看全部 9 个回答

世界第一等

新虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
我不知道你的抛光后的要求是怎么样的,机械抛光时,你可以通过镶嵌的方法使试样被抛光到一定的厚度;如果这样机械抛光的方法使试样仍不能满足抛光度,可以通过化学试剂的方法进行化学抛光(抛光液通常有硝酸,盐酸,苦味酸,冰醋酸等);这样不行还可以进行电解抛光,抛光的电流和试剂可以自己查资料和实验摸索。不知道这样对你有帮助不
学无止境
2楼2012-01-12 22:56:40
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风华@正茂

银虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
qinkaiqiang(金币+6): 2012-03-05 18:58:10
qinkaiqiang: 回帖置顶 2012-03-08 09:24:51
lchpy(金币+1): thanks for your information~ 2012-03-08 09:29:57
用5gFeCl3+10mlHCl+100mlH2O配置溶液,根据需要情况浸泡铜片或者用脱脂棉蘸取溶液擦拭表面至满意为止,我用的效果还不错
3楼2012-03-05 17:24:53
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qinkaiqiang

木虫 (小有名气)

引用回帖:
: Originally posted by 风华@正茂 at 2012-03-05 17:24:53:
用5gFeCl3+10mlHCl+100mlH2O配置溶液,根据需要情况浸泡铜片或者用脱脂棉蘸取溶液擦拭表面至满意为止,我用的效果还不错

请问你通常浸泡多长时间?你的铜片抛光之后表面粗糙度能达到什么程度?谢谢!
4楼2012-03-08 09:24:44
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