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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 用化学抛光方法抛光铜片
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qinkaiqiang

木虫 (小有名气)

[求助] 用化学抛光方法抛光铜片

本人用CVD方法在铜片上原位生长CNTs，必须先将铜片抛光，由于铜片的厚度只有3mm，机械抛光方法有点困难，不知道能不能用化学抛光的方法将铜片抛光，具体的操作步骤是什么？请诸位指点！！！
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1楼 2012-01-10 16:05:51
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风华@正茂

银虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
qinkaiqiang(金币+6): 2012-03-05 18:58:10
qinkaiqiang: 回帖置顶 2012-03-08 09:24:51
lchpy(金币+1): thanks for your information~ 2012-03-08 09:29:57
用5gFeCl3+10mlHCl+100mlH2O配置溶液，根据需要情况浸泡铜片或者用脱脂棉蘸取溶液擦拭表面至满意为止，我用的效果还不错
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3楼2012-03-05 17:24:53
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世界第一等

新虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
我不知道你的抛光后的要求是怎么样的，机械抛光时，你可以通过镶嵌的方法使试样被抛光到一定的厚度；如果这样机械抛光的方法使试样仍不能满足抛光度，可以通过化学试剂的方法进行化学抛光（抛光液通常有硝酸，盐酸，苦味酸，冰醋酸等）；这样不行还可以进行电解抛光，抛光的电流和试剂可以自己查资料和实验摸索。不知道这样对你有帮助不
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学无止境
2楼2012-01-12 22:56:40
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qinkaiqiang

木虫 (小有名气)
引用回帖:
楼: Originally posted by 风华@正茂 at 2012-03-05 17:24:53:
用5gFeCl3+10mlHCl+100mlH2O配置溶液，根据需要情况浸泡铜片或者用脱脂棉蘸取溶液擦拭表面至满意为止，我用的效果还不错

请问你通常浸泡多长时间？你的铜片抛光之后表面粗糙度能达到什么程度？谢谢！
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4楼2012-03-08 09:24:44
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风华@正茂

银虫 (初入文坛)
引用回帖:
4楼: Originally posted by qinkaiqiang at 2012-03-08 09:24:44:
请问你通常浸泡多长时间？你的铜片抛光之后表面粗糙度能达到什么程度？谢谢！

这个比例配的腐蚀液浓度还是比较高的，我做的是铜基复合材料，腐蚀的时候就用脱脂棉沾着嚓两下，表面的一些细小的划痕就没了，颜色开始变暗，擦得多了容易腐蚀过度
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5楼2012-03-09 11:10:48
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