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关于光刻胶的一个扫盲问题,谢谢
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jiangwf1
银虫
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专业: 高分子组装与超分子结构
[
求助
]
关于光刻胶的一个扫盲问题,谢谢
小弟进来准备做光刻胶,用正胶。请问一下一般情况下正胶刻蚀完以后光敏材料如何去除啊?就是如何剥胶啊?谢谢各位!
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1楼
2012-01-09 18:25:23
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angeljiayou
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专业: 计算机硬件技术
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zznjut(金币+1): 欢迎交流 2012-01-09 20:01:28
用丙酮溶剂,我是做MEMS 的,不知道你是不是这问题
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2楼
2012-01-09 19:02:07
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leemars001
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专业: 功能与智能高分子
【答案】应助回帖
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感谢参与,应助指数 +1
zznjut(金币+1): 欢迎交流 2012-01-10 10:44:04
丙酮可以,也可以选择你所用胶的溶剂,还有你买胶的厂家的配套试剂也有剥离液
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3楼
2012-01-10 08:54:28
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wykgo
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专业: 无机纳米化学
碱液,很轻松
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4楼
2012-11-26 15:51:31
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rui200912528
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注册: 2013-11-01
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专业: 半导体材料
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4楼
:
Originally posted by
wykgo
at 2012-11-26 15:51:31
碱液,很轻松
碱液去光刻胶还是第一次听说呢,是对所有类型的光刻胶都有用吗?我也遇到了光刻胶去除不干净的问题。刚接触光刻不久
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5楼
2014-10-11 09:19:07
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