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浅蓝深蓝

铜虫 (初入文坛)

[求助] 求助关于磁控溅射的问题

请问各位虫友:
   用磁控溅射仪有没有什么办法溅射掉基板表层的膜后(如氧化膜),再溅射靶材物质,(基质太过活泼,如果用其他的方法去掉表层后,遇空气后又立即氧化,严重影响性能)。
   据老板说加负偏压可以解决问题,本人刚接触学术研究,才疏学浅,不知道是什么意思,不知道有没有明白这个问题的高人,或者大家有什么方法没?

    这个是不是就是“自溅射”,自溅射又是什么意思呢?
   多谢赐教啊~~~

[ Last edited by 浅蓝深蓝 on 2011-12-11 at 21:14 ]
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wsword.3

金虫 (初入文坛)

送鲜花一朵
引用回帖:
8楼: Originally posted by spyan581 at 2011-12-12 23:53:40:
你好!对于此现象可如几位的建议,但有一个更好的办法,但你的溅射仪的偏压不一定能实现。即在基体上加上500V左右的中频脉冲电压。具体工工艺可参考严少平的博士毕业论文。

亲,你好,请问你这里所说的中频脉冲偏压,占空比和频率有没有一定要求呢?中频大概是指多少?然后严少平这个名字有无错误啊,查不到呢,谢谢你啊~~~
25楼2012-04-30 09:58:48
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Easony

至尊木虫 (知名作家)

老顽童

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
自溅射就是通过离子轰击把靶材的原子沉积到样品表面,溅射时候是利用等离子体一般用氩气来完成的,氩离子带正电,要向阴极跑,所以靶材就是溅射阴极,阻值?没听过,没有什么阻值,只有电压阈值,就是等离子体激发的电压,大约是500V左右
自信,坚持,善良,真实,简单生活,敢爱敢恨!
2楼2011-12-11 21:58:52
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浅蓝深蓝

铜虫 (初入文坛)

引用回帖:
: Originally posted by Easony at 2011-12-11 21:58:52:
自溅射就是通过离子轰击把靶材的原子沉积到样品表面,溅射时候是利用等离子体一般用氩气来完成的,氩离子带正电,要向阴极跑,所以靶材就是溅射阴极,阻值?没听过,没有什么阻值,只有电压阈值,就是等离子体激发 ...

你说的是溅射的原理吧?
3楼2011-12-11 22:05:56
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feiepeng

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
浅蓝深蓝(金币+2): 2011-12-13 13:32:14
溅射氧化层得用射频源,因为一般的氧化物都是不导电的,用之流的话很难产生稳定的电场的,至于加负偏压的话不确定是否可以将之溅掉。

» 本帖已获得的红花(最新10朵)

roc
4楼2011-12-12 17:30:44
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