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缺陷结合能和形成能
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| 小弟最近弄些缺陷的计算,读了一些文献关于缺陷来说总提到一个形成能和结合能。自己目前的理解是,结合能越大,越容易形成这种缺陷,形成能越小,也越容易形成。现在想算在含有一个空位的Fe的超胞中掺杂He,计算He和空位结合形成He-V复合体的结合能。看了好多文献都不太明白,而且算出来He和空位结合后的能量要比结合之前高,实验结果是He-V复合体很稳定,而且很容易形成,结合能比较高。有没有算过缺陷的大牛指点一下呢?结合能和形成能究竟有啥不一样呢?谢谢 |
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xycqy(金币+2):谢谢参与
xycqy(金币+5): 很有用的信息,我会尝试一下。文章出来烦请您给我发一份,不胜感激! 2011-12-06 10:13:50
fzx2008(金币+3): 谢谢指教 2011-12-06 10:26:25
xycqy(金币+2):谢谢参与
xycqy(金币+5): 很有用的信息,我会尝试一下。文章出来烦请您给我发一份,不胜感激! 2011-12-06 10:13:50
fzx2008(金币+3): 谢谢指教 2011-12-06 10:26:25
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本人同合作者刚好做一个工作,研究掺杂原子与材料的本征缺陷(比如空位等)之间的相互作用。把一些形成能的公式相互捣腾,弄出了几个能说明问题的公式。这些公式捣腾起来很简单,但是它们可广泛用于掺杂和缺陷研究里面类似的问题。等文章出来了,再贴出来供你参考。 就你的问题而言: 关键的要计算的量是:He间隙与Fe里面空位的相互作用能,它可以采用下面的公式来计算: E_int (He---V) = E(He+V) + E_0 -[ E(He) + E(V) ] 这里E(He+V)是含He和空位的体系的总能,E_0是完整晶格的超原胞的总能, E(He)是没有空位的体系里面掺杂一个He的总能, E(V)是体系含有一个空位的情况下的总能。 如果E_int (He--V)是负的,说明 He--V之间的相互作用是吸引的,说明He趋向于空位的地方。如果是正的,那就是排斥的,也表明He趋向于远离空位的地方。对此公式还有更多的理解,比如比如它反映了形成空位前后,He间隙的形成能的变化;He间隙进去后,空位形成能的变化。 |
13楼2011-12-06 09:20:44
2楼2011-12-06 06:39:04
leimiao_hit
木虫之王 (文学泰斗)
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4楼2011-12-06 08:45:28
5楼2011-12-06 08:47:29
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2011-12-06 08:58
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xycqy(金币+2):谢谢参与
吾欲奔三十10楼
2011-12-06 09:05
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xycqy(金币+2):谢谢参与


















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