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295435736金虫 (小有名气)
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翻译一句话，中翻英
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| 有文献指出PECVD沉积薄膜的均匀性与反应气体分配进入反应室有关系，故下极板采用“喷淋式”平板电极，功率馈入采用“喷淋式”电极背面中心点馈入方式，下极板距真空腔室底面为110 mm，上极板上表面接地，下表面放置基片，两极板间距离在一定范围内可调。 |
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各位大神，目前国内有哪些比较好用的逆合成软件？
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fjtony163
版主 (文坛精英)
米米
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【答案】应助回帖
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爱与雨下(金币+1): 2011-10-28 19:36:48
295435736(金币+40, 翻译EPI+1): 还行，谢谢了 2011-10-28 21:16:20
爱与雨下(金币+1): 2011-10-28 19:36:48
295435736(金币+40, 翻译EPI+1): 还行，谢谢了 2011-10-28 21:16:20
| Some literature points out that the distribution of PECVD deposition membrane has relationship with reacted gas distribution entering reaction room. So the lower plate adopted showerhead plate electrode and power feed used back center point feed on showerhead electrode. Lower plate is 110mm from vacuum chamber bottom and upper surface of upper plate is attached to ground when chip is put on lower surface. The distance between two plates could be adjustable in certain range. |
2楼2011-10-28 14:00:56
