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干法 氧化 硅
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材料的干法氧化（Dry Oxidation）到底是如何操作的？ 是直接在空气中加热到高温还是需要放进真空退火炉通入纯O2进行的？ 如果我想在硅片表面得到一层均匀的几十nm厚的氧化层，应该如何操作？假如在真空退火炉中进行氧化，氧气压、温度分别应该如何选择？  |
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