| 查看: 435 | 回复: 0 | |||
[求助]
干法 氧化 硅
|
|
材料的干法氧化（Dry Oxidation）到底是如何操作的？ 是直接在空气中加热到高温还是需要放进真空退火炉通入纯O2进行的？ 如果我想在硅片表面得到一层均匀的几十nm厚的氧化层，应该如何操作？假如在真空退火炉中进行氧化，氧气压、温度分别应该如何选择？  |
回复此楼» 猜你喜欢
救命帖
已经有6人回复
-
存款400万可以在学校里躺平吗
已经有37人回复
-
英文综述是否需要润色及查重
已经有5人回复
-
限项规定
已经有5人回复
-
为什么nbs上溴 没有产物点出现呢
已经有9人回复
-
招博士
已经有3人回复
-
最失望的一年
已经有18人回复
» 本主题相关商家推荐: (我也要在这里推广)
找到一些相关的精华帖子，希望有用哦~
新买的硅片自然条件下氧化层的厚度是多少？
已经有4人回复
- 【求助】25金币求助：氧化铝作为吸附剂的柱层析问题
已经有19人回复
- 冲击粉碎机，球磨机（干法，湿法），振动磨，气流粉碎机等各种粉体粉碎设备
已经有10人回复
- 【求助】牛人们，帮帮我，回答几道小问题！！！请快点！！
已经有5人回复
点击这里搜索更多相关资源科研从小木虫开始，人人为我，我为人人