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半导体材料的带隙可以通过哪些测试手段获得？谢啦！
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| 金属氧化物半导体材料的带隙可以通过哪些测试手段获得？谢啦 |
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Yes, XPS can be used for such purpose. But as far as I know, it can only show the valence band position. For those who need to determine the band bending, schottky barrier height, or heterojunction band discontinuity..., this might be also a good technique. I will try to find some literature on this and keep you guys updated. UV-Vis is the most popular technique for the determination of band gap energy of semiconductor materials. But again, whether we should take the absorption edge or the inflection point, whether we need Kubelka-Munk or not??? These are all question mark to me. So I would be more than happy to know what you guys think. |
9楼2006-12-15 23:46:03
protein1
铁杆木虫 (著名写手)
- 应助: 30 (小学生)
- 金币: 13068.1
- 散金: 8
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- 性别: GG
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3楼2006-12-14 21:15:34
4楼2006-12-14 22:08:05
xutongkk
至尊木虫 (正式写手)
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- 专业: 催化化学
5楼2006-12-15 13:35:39
