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[求助]光催化中缺陷问题
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为什么说缺陷是电子和空穴的复合中心呢???????? 这个问题有点不明白 看文献的时候都这么说 但是原因不知道 望光催化高手指点 由于时间有限 自己也不能去查资料  [ Last edited by rabbit7708 on 2007-10-22 at 22:16 ] |
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2楼2006-11-15 11:51:19
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7楼2006-11-16 14:42:59
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8楼2006-11-16 15:22:48
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现在对缺陷在光催化领域中的影响其认识恐怕是不深入的 主流的观点说缺陷是电子与空穴的复合中心，这个如上所述是从荧光光谱得来的理论。但缺陷真的是光催化性能的克星吗？恐怕也不是这样。 目前发现的不少材料如InTaO4，理论上是不可能存在可见光活性的。但他的多晶粉末在440nm左右还有很小的吸收，正是这一点吸收产生了一丝微弱的可见光活性。通过掺杂、固溶等等手段，还可以提高其可见光活性。在这一问题的认识上，就有一种观点，认为：完美无缺陷的InTaO4带隙高达4.4eV，是不可能存在可见光活性的。之所以有，正是表面缺陷造成的可见光吸收。 但是，这一点点吸收是如何激发出电子的呢？电子如何跨越如此高的能垒，实现电子－空穴的分离，而不是立即复合了呢？这一点有必要进行深入的研究。 |
9楼2007-10-21 18:56:21
10楼2007-10-21 19:30:44