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dcm20102

金虫 (小有名气)

应助: 0 (幼儿园)
金币: 468
散金: 66
帖子: 191
在线: 40.3小时
虫号: 747088
注册: 2009-04-13
专业: 催化化学

[求助] 恒电流沉积（计时电位法）的参数设置

我要在Cu2SO4溶液中电沉积Cu2O, 恒电位沉积电位为-0.45V vs SCE，用的是CHI760D工作站，不知道如何设置参数，如下设置有没有问题？能否给个建议，越详细越好~~另外我因为要控制沉积的厚度，能否通过沉积时间控制沉积电量呢？

阴极电流：0.00018A
阳极电流：0
高电位限制: 1
High E hold time: 0
低电位限制：-1
Low E hold time: 0
阴极时间（秒）：11700
阳极时间（秒）：0
起始极性：阴极
数据存贮间隔： 0.1
段数：1
电流极性切换优先：时间

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1楼 2011-08-16 10:01:40

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胡琪

铁杆木虫 (著名写手)

ECEPI: 3
应助: 830 (博后)
金币: 10231.1
散金: 500
红花: 68
帖子: 2976
在线: 881.6小时
虫号: 1346956
注册: 2011-07-15
性别: GG
专业: 有机合成

Cathodic current:0.00018
Anodic current: -0.00018
High E limit: 1
Low E limit: -1
Cathdic Time: 0
Anodic Time: 0
Initial Polarity: Cathodic/Anodic 均可，只决定第一个循环是充电还是放电
Data Storage Intvl: 最小可以设到0.002，为采样点的时间间隔，如设置为0.02，即0.02s记录一个电压数据
Number of Segments: 2，充电是一个segment，放电又是一个segment，一个完整的充放电是2个segment，不知道你想做多少个周期。下面Current Swithing和Auxiliary就按照默认的，希望能帮到你！