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磁控溅射法制备的高阻薄膜电阻器（Cr-Si）退火后膜层变化太大
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| 磁控溅射法制备的高阻薄膜电阻器（Cr-Si）退火热处理后膜层变的特别浅了，两端变白了，看的到陶瓷基体了！没有反应溅射，是表层非晶硅晶化的结果吗？加入氮气参见反应溅射情况会好点吗？还是因为真空度的原因？ |
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xjtu-sunhl
金虫 (正式写手)
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- 专业: 金属材料表面科学与工程
2楼2011-09-22 11:18:07