| 查看: 699 | 回复: 1 | ||
[求助]
磁控溅射法制备的高阻薄膜电阻器（Cr-Si）退火后膜层变化太大
|
| 磁控溅射法制备的高阻薄膜电阻器（Cr-Si）退火热处理后膜层变的特别浅了，两端变白了，看的到陶瓷基体了！没有反应溅射，是表层非晶硅晶化的结果吗？加入氮气参见反应溅射情况会好点吗？还是因为真空度的原因？ |
回复此楼» 猜你喜欢
材料调剂
已经有7人回复
-
化学工程085602 305分求调剂
已经有10人回复
-
289求调剂
已经有15人回复
-
291 求调剂
已经有7人回复
-
274求调剂
已经有14人回复
-
北京林业大学硕导招生广告
已经有3人回复
-
309求调剂
已经有5人回复
-
292求调剂
已经有8人回复
-
求调剂
已经有4人回复
-
一志愿 西北大学 总分282 英语一62 求调剂
已经有3人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- 【求助】有人用过ZC36高阻计吗
已经有15人回复
- 求助ZC36高阻计测试材料绝缘性能时对试样大小的要求是什么
已经有3人回复
xjtu-sunhl
金虫 (正式写手)
- 应助: 9 (幼儿园)
- 金币: 1245
- 散金: 10
- 帖子: 972
- 在线: 85.7小时
- 虫号: 1185730
- 注册: 2011-01-08
- 性别: GG
- 专业: 金属材料表面科学与工程
2楼2011-09-22 11:18:07
