| 查看: 676 | 回复: 1 | ||
[求助]
磁控溅射法制备的高阻薄膜电阻器（Cr-Si）退火后膜层变化太大
|
| 磁控溅射法制备的高阻薄膜电阻器（Cr-Si）退火热处理后膜层变的特别浅了，两端变白了，看的到陶瓷基体了！没有反应溅射，是表层非晶硅晶化的结果吗？加入氮气参见反应溅射情况会好点吗？还是因为真空度的原因？ |
回复此楼» 猜你喜欢
存款400万可以在学校里躺平吗
已经有15人回复
-
拟解决的关键科学问题还要不要写
已经有6人回复
-
Materials Today Chemistry审稿周期
已经有6人回复
-
基金委咋了？2026年的指南还没有出来？
已经有10人回复
-
基金申报
已经有6人回复
-
推荐一本书
已经有13人回复
-
国自然申请面上模板最新2026版出了吗？
已经有17人回复
-
纳米粒子粒径的测量
已经有8人回复
-
疑惑？
已经有5人回复
-
计算机、0854电子信息（085401-058412）调剂
已经有5人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- 【求助】有人用过ZC36高阻计吗
已经有15人回复
- 求助ZC36高阻计测试材料绝缘性能时对试样大小的要求是什么
已经有3人回复
xjtu-sunhl
金虫 (正式写手)
- 应助: 9 (幼儿园)
- 金币: 1245
- 散金: 10
- 帖子: 972
- 在线: 85.7小时
- 虫号: 1185730
- 注册: 2011-01-08
- 性别: GG
- 专业: 金属材料表面科学与工程
2楼2011-09-22 11:18:07