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磁控溅射法制备的高阻薄膜电阻器(Cr-Si)退火后膜层变化太大
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| 磁控溅射法制备的高阻薄膜电阻器(Cr-Si)退火热处理后膜层变的特别浅了,两端变白了,看的到陶瓷基体了!没有反应溅射,是表层非晶硅晶化的结果吗?加入氮气参见反应溅射情况会好点吗?还是因为真空度的原因? |
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xjtu-sunhl
金虫 (正式写手)
- 应助: 9 (幼儿园)
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- 专业: 金属材料表面科学与工程
2楼2011-09-22 11:18:07











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