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kevin0007

铁虫 (初入文坛)

[求助] 磁控溅射法制备的高阻薄膜电阻器(Cr-Si)退火后膜层变化太大

磁控溅射法制备的高阻薄膜电阻器(Cr-Si)退火热处理后膜层变的特别浅了,两端变白了,看的到陶瓷基体了!没有反应溅射,是表层非晶硅晶化的结果吗?加入氮气参见反应溅射情况会好点吗?还是因为真空度的原因?
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xjtu-sunhl

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

最好做扫描仔细观察薄膜表面的形貌,可能是退火过程中原子扩散导致有物质析出的结果。
2楼2011-09-22 11:18:07
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