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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 专业学科区 » 物理 » 凝聚态物理 » 缓冲层对透明导电膜表面粗糙度有什么影响
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xunmengyuan

禁虫 (正式写手)
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1楼 2011-06-14 09:41:57
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boyshen

至尊木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

xunmengyuan(金币+3): 2011-06-14 15:25:54
要看你用什么方法做了，如果是化学法的话，厚的SIO2是有利于长成光滑的ITO
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2楼2011-06-14 10:45:28
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huhuhuhu

铁杆木虫 (著名写手)

大师兄

【答案】应助回帖

xunmengyuan(金币+1): 2011-06-15 10:52:12
xunmengyuan(金币+6): 2011-07-09 08:00:03
应该和buffer的粗糙度没有关系，和你长ITO的条件有很大关系
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3楼2011-06-15 10:38:08
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nlw175

金虫 (正式写手)
我觉得肯定有关系吧，薄膜外延生长过程会受基底晶格结构和平整度的影响，否则为什么要选择高质量的基底？
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4楼2011-06-30 22:58:41
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huhuhuhu

铁杆木虫 (著名写手)

大师兄
对了，如果是外延当然有关系了，但是通常ITO是溅射做的，这个关系就不大了
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5楼2011-07-10 16:37:59
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