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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 如何用疏水基团掩盖介孔硅外表面的羟基，而不影响孔内的羟基呢？
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yiyueqiufeng

新虫 (初入文坛)

[求助] 如何用疏水基团掩盖介孔硅外表面的羟基，而不影响孔内的羟基呢？

我打算用表面活性剂P123、TMOS制备介孔，用来固定化酶，为了防止材料外表面的硅羟基对酶造成非位点特异性吸附，需要将其用疏水基团掩盖掉，但是孔内的羟基想保留，不知道用什么方法可以达到这个目的~请高人指点~~~~
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1楼 2011-06-09 20:53:41
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luciushan

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

yiyueqiufeng(金币+3): 我也是这么想的~但是看到有文献上酸性乙醇下会导致修饰的基团上的甲基变成了羟基 2011-06-19 18:39:44
在未除去P123表面活性剂的样品表面修饰疏水基团，然后酸性乙醇萃取除去P123。这样可以保留孔内的硅羟基。
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bor@fd
9楼2011-06-17 12:29:40
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nanotio2

金虫 (正式写手)
表面用杯芳烃修饰
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2楼2011-06-09 23:51:49
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yiyueqiufeng

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
Originally posted by nanotio2 at 2011-06-09 23:51:49:
表面用杯芳烃修饰

具体怎么做？会不会把所有的羟基都修饰了啊？
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3楼2011-06-10 11:07:48
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nanotio2

金虫 (正式写手)
杯芳烃是疏水性的，如果你的东西是亲水的话，它只会在表面成键
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4楼2011-06-10 12:00:25
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