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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 硅片的清洗
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yunyunnx

铜虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★
nuaajsh(金币+1): 鼓励交流 2011-05-01 23:56:59
用浓硫酸+双氧水氧化

然后用HF去处SiO2

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11楼2011-04-30 07:40:23
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thphysical

新虫 (初入文坛)
这个不错，谢谢
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12楼2011-04-30 08:47:44
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gxljp0305

银虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
Originally posted by global_lin at 2011-04-27 15:53:59:
若是你要在上面生长薄膜，并且还要在较高温度下使用，建议你在你所用的最高温度下先对硅衬底进行退火处理。若是你要在上面生长纳米颗粒、纳米线之类的，就对其进行刻蚀。。。。。

如果想在硅基底上生长一层100nm的SiO2薄膜，应该怎么进行？怎样生长SiO2？谢谢！
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13楼2011-04-30 09:48:01
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quanten

金虫 (著名写手)

QQ群(NW-FET): 157220400

【答案】应助回帖

★
nuaajsh(金币+1): 鼓励讨论 2011-05-01 23:57:08
引用回帖:
Originally posted by gxljp0305 at 2011-04-30 09:48:01:
如果想在硅基底上生长一层100nm的SiO2薄膜，应该怎么进行？怎样生长SiO2？谢谢！

有两种方法，首先选用RCA方法清洗，然后氧化，可以用湿氧氧化或干氧氧化，湿氧氧化速度快，但是干氧氧化效果好，具体参数，湿氧氧化,Wet oxidation 3min 1050℃ 115nm,测量厚度可以用椭偏仪
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14楼2011-05-01 01:33:33
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鼓声点点

捐助贵宾 (小有名气)
对啊，半导体工业有成熟的工艺，你可以查一下。
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每天进步一点点
15楼2011-08-08 14:51:06
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王军wangjun

金虫 (小有名气)
内容已删除
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把工作当享受，你就会竭尽全力；把生活当乐趣，你就会满怀信心；把读书当成长，你就会勤奋努力；把奉献当快乐，你就会慷慨助人
16楼2011-08-12 10:42:34
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不玩了真累

新虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by global_lin at 2011-04-27 15:44:38
硅片作衬底是吧，先用加表面活性剂的自来水超声15min，而后用丙酮超声15min，然后用乙醇超声15min，最后用去离子水超声15min，真空干燥（也可以在空气中干燥，真空干燥主要是防止干燥过程沾上空气中的尘埃粒子）， ...

really？让我试试
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17楼2015-06-23 14:12:25
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邋遢的喵

新虫 (初入文坛)
楼主你们洗衬底的架子是哪里买的？

发自小木虫Android客户端
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18楼2017-07-07 06:39:34
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