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snowmami

新虫 (正式写手)


[交流] 【求助】关于Squid测做在硅片上的ZnO:Ni薄膜磁性的三个问题

我的ZnO:Ni薄膜做在硅片上,现在拿到外地去做Squid的测量。但是刚测了一个样品就反应说数据不太好。
因为是第一次测,搞不清楚是不是参数选的不对,
现有以下三个问题请教:
         1.通过查文献我建议的参数是磁场强度1000 Oe下测变温的M-T曲线,和常温下测M-H曲线。不知道该磁场是否合适,做过类似测试的朋友们能否给个建议。
         2.硅片的影响是否很大,应该用oringe在作图时如何扣除衬底的影响呢?
         3.M的单位为emu,但是在作图时需要纵轴是emu/g,也就是要除以质量,可是我的样品是做在Si衬底上的薄膜,怎么测质量呢?希望高手们多多赐教!
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sciencemaji

至尊木虫 (文坛精英)


snowmami(金币+5):谢谢你的回答,我天天查看,就你一个人回答了,答得还不错! 2010-12-31 15:58:31
你的第一个问题:一般磁性不是太弱的样品的M-T曲线都取100Oe,较弱的样品可以取为1000Oe或者3000Oe,我不知道你样品中的NI含量是多少,磁性如何,但这种参数设置是我们最常用的。
第二个问题:单测硅片的磁性能数据,在origin中两列相减就行了;
第三个问题:如果你的样品是带着硅片测的磁性能,那么你换算emu/g时必须算上硅片的质量。所以根本就不用知道薄膜的质量!
2楼2010-12-29 15:16:04
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