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铜铜

金虫 (正式写手)

[交流] 如何控制载体SiO2表面羟基的数目

如何控制载体SiO2表面羟基的数目,请前辈指教

[ Last edited by daiqiguang on 2007-5-11 at 09:32 ]
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rabbit7708

荣誉版主 (职业作家)

心虫

引用回帖:
Originally posted by 铜铜 at 2006-6-17 21:54:
谢谢楼上的高手,焙烧比较好理解,添加其它氧化物是否可通过浸渍方法实现后,再载上其他活性金属。

可以用浸渍法来添加少量其他金属氧化物,也可以用其他方法,具体方法各催化书籍均有详细介绍,我就不一一阐述了。
化学学科——催化专版欢迎您!:) http://emuch.net/bbs/forumdisplay.php?fid=190 常来看看哟!:)
7楼2006-06-18 10:49:36
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查看全部 23 个回答

可可西里

木虫之王 (文学泰斗)

甾体者说

1

不知道啊

不做这个啊

求助文献下载后,及时评分和EPI。
2楼2006-06-17 00:52:59
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hot_cool

金虫 (小有名气)

0.25


paracyclophane(金币+1):3x!
pH调节是一个办法,因为zeta potential会随之改变,表面羟基于是也随之而变化。当然也可以通过oxygen plasma 等方法。这些都是现在能想到的一些,因为不做这个领域,建议仅供参考。
3楼2006-06-17 12:16:57
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rabbit7708

荣誉版主 (职业作家)

心虫

0.25


paracyclophane(金币+1):3x! ^_^
你是想增加表面羟基的数目还是减少呢?
如果增加,可以添加一些弱酸或中强酸性的助催化剂,比如P,B的氧化物;或者添加一些Al,Ti,Zr等做成复合载体。具体加入量根据需要调节即可;
如果减少,可以通过焙烧来得到实现,焙烧温度越高,酸性可能会稍有降低,但同时会损失一定的比表面积。或者添加碱性的助催化组分,如碱金属,碱土金属的氧化物等。
化学学科——催化专版欢迎您!:) http://emuch.net/bbs/forumdisplay.php?fid=190 常来看看哟!:)
4楼2006-06-17 12:41:09
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