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铜铜

金虫 (正式写手)

[交流] 如何控制载体SiO2表面羟基的数目

如何控制载体SiO2表面羟基的数目,请前辈指教

[ Last edited by daiqiguang on 2007-5-11 at 09:32 ]
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可可西里

木虫之王 (文学泰斗)

甾体者说

1

不知道啊

不做这个啊

求助文献下载后,及时评分和EPI。
2楼2006-06-17 00:52:59
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可可西里

木虫之王 (文学泰斗)

甾体者说

引用回帖:
Originally posted by kohn at 2006-7-4 12:17 AM:
TNND的
铜铜不会是那个什么地方的兄弟吧,哪个组的?打个招呼先:)

先用酸活化表面,再在真空下升温处理打断Si-O-Si键,生成Si-OH表面活性羟基。注意不要把载体结构搞踏了。

这个说的对

和我想的一样
求助文献下载后,及时评分和EPI。
21楼2007-03-12 00:19:04
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可可西里

木虫之王 (文学泰斗)

甾体者说

引用回帖:
Originally posted by jacken at 2007-3-11 06:08 PM:
增加表面羟基可以采用水蒸气处理的方法。
减少羟基可以采取干燥气氛焙烧的方法。

好注意
求助文献下载后,及时评分和EPI。
22楼2007-03-12 00:20:08
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