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yexuqing木虫之王 (文学泰斗)
太阳系系主任
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【转帖】东芝展望EUV曝光技术，“量产在即，或需要与双图案化技术并用”
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??????EUV??????????????????????????????????????á? 2010/11/22 00:00  ????????????????????Ρ??????????????????????????ASML???????2010??11??18??????????е??ASML/Brion Computational Lithography Seminar 2010??????????????????EUV??????????????????????????????????????????????????????????????????EUV???????????NAND???棩?????????????????ü???????????Χ???????????????????????EUV???????????????ü?????????????1Xnm????????????????????????????????Double Patterning???????????????????????????????????????ArF???????NAND???档 ????????????????????????????????????2009????????????32nm??????????EUV?????????????????ò??????????ArF??????????????????????????????ü???????÷?Χ????????????????2012????????????1Xnm??????????????????????????????????????????????? ???????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????壬??????100???????????????50??60??????2X??1Xnm??????????????????????Χ???????????????????????OPC?????????????侪?????????????????????EUV???????????????????????????????????????????У?????????????5????????????????????????????????????????EUV????????????????????? ????????о???????EUV???????????????????4????????????????1?????????????????2?????????????????3??????????????computational lithography?????????????????????????4???????????????????????????????е?????????????????????????????????????????????????EUV???????δ????????????????????????????????????????20nm??????????????????ó???????????????????????????????????????????????? ????????EUV???????????????????????????????????????????????????NA???????off-axis???????????Щ???????????????????????????EUV??????????????????????ü??????????????????????????????????????????????????????????????EUV?????????????????14nm?????????????????????????EUV???????????????????????????????????????????????????????????????????????????????EUV???????????????????????????? ????? ????????? ?|???EUV????????Z???????b?g???????????????`????????????????? |
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