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kenshin520

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[交流] 【求助】大家谈谈电子级化学品已有5人参与

最近在做一个有关电子级化学品的调研工作（本人学分析），所以想请大家指点一二，想请教现在电子级化学品都有哪些？国际国内的发展现状等等？小某不才，想与交流一下

[ Last edited by kenshin520 on 2010-8-12 at 16:23 ]

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吟（淫）得一首（手）好诗（湿）容易，难的是吟（淫）得一辈子（被子）好诗（湿）

1楼2010-08-12 16:14:52

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domybest2010

铜虫 (初入文坛)

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kenshin520(金币+3):谢谢，字体很难认啊 2010-08-13 13:31:48

电子级化学品乃借助化学品固有的化學特性，主要為電子產品進行微的化学特性，主要为电子产品进行微影、蝕刻與清洗等動作，應用的領域影、蚀刻与清洗等动作，应用的领域以印刷電路板、半導體與液晶薄膜顯以印刷电路板、半导体与液晶薄膜显示面板為大宗，其中尤以半導體與液示面板为大宗，其中尤以半导体与液晶薄膜顯示面板對高純度的電子級化晶薄膜显示面板对高纯度的电子级化學品要求最為嚴格，以避免其中的雜学品要求最为严格，以避免其中的杂質干擾產品表現。质干扰产品表现。依工研院IEK資料，依工研院IEK资料，2 0 0 4年我國電子級化學品產值達新台 2 0 0 4年我国电子级化学品产值达新台幣2 3 , 6 1 6百萬元，2 0 0 5年受到半導體币2 3 , 6 1 6百万元，2 0 0 5年受到半导体LCD用化學品持續大幅成長之賜，產与LCD用化学品持续大幅成长之赐，产值成長率達1 5 %，遠高於所有化學品2 % 值成长率达1 5 %，远高于所有化学品2 %的年平均成長率。的年平均成长率。
   电子级化学品主要扮演著微影、蝕刻與清洗三大功主要扮演着微影、蚀刻与清洗三大功
能，以下分别叙述。
   【微影】
   乃藉由光阻劑對光產生的化學反乃藉由光阻剂对光产生的化学反應，以便讓所需的影像留存在材料应，以便让所需的影像留存在材料上。上。可分為正型與負型兩種。可分为正型与负型两种。光阻劑光阻剂的主要成分為酚醛樹脂，依IEK資料，的主要成分为酚醛树脂，依IEK资料，2 0 0 4年全球光阻劑市場產值為9 . 4億美 2 0 0 4年全球光阻剂市场产值为9 . 4亿美元，較2 0 0 3年成長了1 9 . 9 %，2 0 0 5年繼元，较2 0 0 3年成长了1 9 . 9 %，2 0 0 5年继續成長了1 0 . 2 %，預估在2 0 0 3 - 2 0 0 9年续成长了1 0 . 2 %，预估在2 0 0 3 - 2 0 0 9年之間，將維持8 . 2 %的複合成長率。之间，将维持8 . 2 %的复合成长率。全球主要供應地為日本，主要?S商為東球主要供应地为日本，主要厂商为东
京應化工業、JSR、住友化學等，目前京应化工业、JSR、住友化学等，目前我國僅永光化學一家生產半導體與液我国仅永光化学一家生产半导体与液晶薄膜顯示面板用的光阻劑，貢獻國晶薄膜显示面板用的光阻剂，贡献国內2%需求，98%仰賴自國外進口。内2%需求，98%仰赖自国外进口。經光照射之後，基材上照射區與经光照射之后，基材上照射区与非照射區在屬於?婝|的顯影液中溶解非照射区在属于强碱的显影液中溶解度會不同，故顯影液可將易溶的部份度会不同，故显影液可将易溶的部份溶解，而達到顯影的目的。溶解，而达到显影的目的。當光阻劑当光阻剂為正型，照射區會產生化學反應，主为正型，照射区会产生化学反应，主鍵斷鍵?K發生極性變化，能溶解於顯键断键并发生极性变化，能溶解于显影液中，而非照射區則不溶於顯影影液中，而非照射区则不溶于显影液；當光阻劑為負型，照射區反而不液；当光阻剂为负型，照射区反而不易溶于显影液，与正型光阻剂正好相反，經顯影液作用之後，不被溶解留反，经显影液作用之后，不被溶解留下的部份便是所需的影像。下的部份便是所需的影像。最通用的最通用的顯影液是氫氧化四基銨溶液(TMAH)。显影液是氢氧化四基铵溶液(TMAH)。當光阻劑在照射、顯影之後，必当光阻剂在照射、显影之后，必須再以去光阻液予以清除，對TFT - LCD 须再以去光阻液予以清除，对TFT - LCD的製作而言，大型基板的邊緣更易堆的制作而言，大型基板的边缘更易堆積、殘留多餘的光阻劑，故需要丙二积、残留多余的光阻剂，故需要丙二醇甲醚乙酯(PGMEA )、氫氧化鉀等溶液醇甲醚乙酯( PGMEA )、氢氧化钾等溶液負責在上述的程序之後，清除、剝離负责在上述的程序之后，清除、剥离多餘的光阻劑。多余的光阻剂。

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2楼2010-08-13 13:00:19

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domybest2010

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kenshin520(金币+1):谢谢 2010-08-13 13:32:00

【蚀刻】
根據微影所留下的圖像，再以蝕根据微影所留下的图像，再以蚀刻液在材料上刻下所需的線路，而蝕刻液在材料上刻下所需的线路，而蚀刻本身可分為?袷脚c乾式二種。刻本身可分为湿式与干式二种。
?袷轿g刻是利用化學液與基材表湿式蚀刻是利用化学液与基材表面的特定材質反應、溶出，而達蝕刻面的特定材质反应、溶出，而达蚀刻效果。主要種�?包含�?衝氧化物蝕刻主要种类包含缓冲氧化物蚀刻液（BOE）混合物、電子級的硝酸、鹽液（BOE）混合物、电子级的硝酸、盐酸、磷酸等，所謂�?衝氧化物蝕刻液酸、磷酸等，所谓缓冲氧化物蚀刻液混合物，乃氫氟酸與氟化銨之混合混合物，乃氢氟酸与氟化铵之混合物。不同的基材材質所使用的蝕刻液不同的基材材质所使用的蚀刻液亦有所差�?，應用在半導體製程的有亦有所差异，应用在半导体制程的有二氧化矽蝕刻液、覆晶矽蝕刻液；應二氧化矽蚀刻液、覆晶矽蚀刻液；应用在TFT - LCD製程的則有玻璃( ITO；用在TFT - LCD制程的则有玻璃( ITO；
Indium Tin Oxide)蝕刻液及不同金屬 Indium Tin Oxide)蚀刻液及不同金属層、介電層所需的不同蝕刻液。层、介电层所需的不同蚀刻液。乾式蝕刻則是依照被蝕刻基材的干式蚀刻则是依照被蚀刻基材的
材質，選擇適當的反應氣體(例如：材质，选择适当的反应气体(例如：X e F 2氟化氙)，利用低壓放電將氣體電 X e F 2氟化氙)，利用低压放电将气体电離成電?{，與被蝕刻的物質作用後，离成电浆，与被蚀刻的物质作用后，形成氣態化合物，再抽出達真空狀形成气态化合物，再抽出达真空状態，完成蝕刻的動作。态，完成蚀刻的动作。具備非等向性具备非等向性(可選擇任何特定方向蝕刻)的優點， (可选择任何特定方向蚀刻)的优点，但耗時、無法大量生產，故僅用於少但耗时、无法大量生产，故仅用于少量生產的特殊規格產品上。量生产的特殊规格产品上。依SRI Consulting資料，依SRI Consulting资料，2 0 0 5年 2 0 0 5年全球各�??娝崤c蝕刻液市場較2 0 0 4年全球各类强酸与蚀刻液市场较2 0 0 4年成長5％，視下游應用的未?戆l展，成长5％，视下游应用的未来发展，2 0 0 6年當保持相當程度的成長。 2 0 0 6年当保持相当程度的成长。而最而最終電子產品發展越趨精密，半導體亦终电子产品发展越趋精密，半导体亦走向多層配線的設計，故各層表面若走向多层配线的设计，故各层表面若是凹凸不平，將造成段差的表現差是凹凸不平，将造成段差的表现差�?，?亩a生斷線的結果。异，从而产生断线的结果。因此表面因此表面平坦化的高度要求，使化學機械研磨平坦化的高度要求，使化学机械研磨( CMP )液的使用量有持續增加的趨 ( CMP )液的使用量有持续增加的趋勢。 CMP研磨液是利用化學反應的特 CMP研磨液是利用化学反应的特性與機械研磨?磉_成表面平坦化的目性与机械研磨来达成表面平坦化的目的，進而減少IC設計?丫窒拗疲嵘� 的，进而减少IC设计布局限制，提升配線密度，同時亦提升製程良率。配线密度，同时亦提升制程良率。依工研院IEK預估，2 0 0 6年全球CMP研磨工研院IEK预估，2 0 0 6年全球CMP研磨液的市場規模將達5 . 9億美元，2 0 0 3 - 液的市场规模将达5 . 9亿美元，2 0 0 3 -2 0 0 8年複合成長率1 0 . 6 %，是IC前段 2 0 0 8年复合成长率1 0 . 6 %，是IC前段
製程中成長最快的一項。制程中成长最快的一项。目前國內僅目前国内仅長興化學一家生產，供應2 %的內需市长兴化学一家生产，供应2 %的内需市場。
【清洗】
在上述半導體與液晶薄膜顯示面在上述半导体与液晶薄膜显示面板的製程中，每一個步驟進行之前都板的制程中，每一个步骤进行之前都需要先進行清洗，以確保材料表面沒需要先进行清洗，以确保材料表面没有污染物與粒子的干擾。有污染物与粒子的干扰。超純水的雜超纯水的杂質含量低，是最根本的清洗工具，但质含量低，是最根本的清洗工具，但易在材料表面形成水痕，故在超純水易在材料表面形成水痕，故在超纯水之後，會使用�?丙醇( IPA )溶劑清之后，会使用异丙醇( IPA )溶剂清洗，暨去除水痕亦可達乾燥、?櫥� 洗，暨去除水痕亦可达干燥、润滑之目的。另外，氨水、雙氧水、氫氧化另外，氨水、双氧水、氢氧化銨等亦可作為清洗液的成分。铵等亦可作为清洗液的成分。
四、国内概况電子級化學品的主要原料是單一电子级化学品的主要原料是单一化學物質的基礎大宗化學品，再經由化学物质的基础大宗化学品，再经由加工以求精純化，純化技術本身才是加工以求精纯化，纯化技术本身才是高值化的精髓所在。高值化的精髓所在。目前國內電子級目前国内电子级化學品?S商多數仍以供應印刷電路板化学品厂商多数仍以供应印刷电路板的較低階需求為主，高階如半導體與的较低阶需求为主，高阶如半导体与液晶薄膜顯示面板所需的化學品，因液晶薄膜显示面板所需的化学品，因國內精純化技術不足，或國外專利時国内精纯化技术不足，或国外专利时效未逾的限制，使國內業者生產規模效未逾的限制，使国内业者生产规模尚小，而不具國際競爭力，目前主要尚小，而不具国际竞争力，目前主要?S商有長興、永光、台硝、李長榮厂商有长兴、永光、台硝、李长荣
等。國內?S商規模不夠大的結果，是国内厂商规模不够大的结果，是無力獨立?幕A研發出新產品?恚� 无力独立从基础研发出新产品来，有賴由國外引進技術或進行策略聯盟，赖由国外引进技术或进行策略联盟，而這往往受制於對方不合理的條件，而这往往受制于对方不合理的条件，又錯失發展先機。又错失发展先机。故國內電子級化學故国内电子级化学品?S商若能整合，既擴大產量與產品品厂商若能整合，既扩大产量与产品線，又降低彼此競爭，方能成就出台线，又降低彼此竞争，方能成就出台
灣世界級的電子級化學品?S商。湾世界级的电子级化学品厂商。另外，精純化的電子級化學品深另外，精纯化的电子级化学品深具侵蝕性，又講求絕無雜質干擾，故具侵蚀性，又讲求绝无杂质干扰，故耐侵蝕??淨的盛裝容器對該業更顯重耐侵蚀洁净的盛装容器对该业更显重要。因品質要求，故即便運輸成本高因品质要求，故即便运输成本高昂，國內該等級化學品的盛裝容器多昂，国内该等级化学品的盛装容器多自日本進口，培養國內塑膠容器製造自日本进口，培养国内塑胶容器制造業者的產品品質，亦為高值化工業發业者的产品品质，亦为高值化工业发展的重要配套措施。

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3楼2010-08-13 13:09:01

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