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红色桔梗

木虫 (正式写手)

[交流] 【求助】XPS的分析 已有4人参与

请叫一下,二氧化硅的表面用偶联剂KH550处理后,XPS里的Si 2p应该怎么变化啊,就是原来是Si-O-Si,变成了Si-C,这个键能应该是多少啊?
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cxt1979

木虫 (著名写手)

~!~

红色桔梗(金币+1):谢谢了 2010-06-30 20:55:09
http://srdata.nist.gov/xps/
查一下就知道了
I can make it through the rain. I can stand up once again on my own.
3楼2010-06-30 09:38:54
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diamondfire

木虫 (正式写手)

红色桔梗(金币+1):x谢谢啦 2010-06-30 08:18:08
峰应当向低binding energy方向移动。
我仅仅是基于电负性的角度分析的。
再烦,也别忘微笑;再急,也要注意语气;再苦,也别忘坚持;再累,也要爱自己。低调做人,你会一次比一次稳健;高调做事,你会一次比一次优秀。
2楼2010-06-29 20:50:04
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nmrservice

捐助贵宾 (著名写手)


红色桔梗(金币+1):呵呵,学校不能做固体的 2010-06-30 20:55:31
你完全可以用固体核磁共振来做
4楼2010-06-30 11:44:35
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charley86577

至尊木虫 (职业作家)

红色桔梗(金币+1):谢谢了 2010-06-30 20:55:46
SiO2 Si2p 应该在103.6eV左右,
SiC Si2p应该在100.4eV左右。

它们之间的BE差是3.2eV.

希望对你有帮助。
keepeyesontheclouds,keepfeetfirmlyontheground
5楼2010-06-30 12:48:18
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