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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 分析 » 数据分析 » 【求助】AlN薄膜XRD测试结果分析求助
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tickychao206

银虫 (小有名气)

[交流] 【求助】AlN薄膜XRD测试结果分析求助 已有2人参与

最近使用磁控溅射法制备了氮化铝薄膜可是XRD的结果却很奇怪，希望大家指点一二:
1,我试验的条件如下：选取的硅基片（100），在氢氟酸中除氧化物，然后在酒精和丙酮中超声清洗。抽真空到10-4Pa以下，开始溅射。
2.我的实验结果却让人很吃惊，在三台设备上做出来的xrd结果惊人的相似，描述如下：分别在33°，46°，54.6°，56.4°，61.8°有峰值，其中33°的峰值也不能叫峰值，就是一个跨度很大的弓形，最强峰在61.8°，这里面所有的峰值只有33°有对应AlN的峰值，其他的都对应不上，不知道什么原因，还有一个很奇怪的现象就是对Si的背面（没有做膜的一面）做了XRD发现也出现了以上的情况，可是峰值很弱几乎和背地差不多，只有61.8°较强，请高人指点。
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正心修身！
1楼 2010-06-28 18:49:47
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diamondfire

木虫 (正式写手)
tickychao206(金币+5):谢谢，很受用! 2010-07-02 18:57:10
弓形可能是非晶ALN
其他峰可能来自于Si衬底。
你可以把衬底旋转40度角，重新测一次，看看结果。
赞一下 回复此楼
再烦，也别忘微笑；再急，也要注意语气；再苦，也别忘坚持；再累，也要爱自己。低调做人，你会一次比一次稳健；高调做事，你会一次比一次优秀。
2楼2010-06-29 19:47:20
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tickychao206

银虫 (小有名气)
引用回帖:
Originally posted by tickychao206 at 2010-06-28 18:49:47:
最近使用磁控溅射法制备了氮化铝薄膜可是XRD的结果却很奇怪，希望大家指点一二:
1,我试验的条件如下：选取的硅基片（100），在氢氟酸中除氧化物，然后在酒精和丙酮中超声清洗。抽真空到10-4Pa以下，开始溅射。
...

谢谢，我回去试试看
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正心修身！
3楼2010-06-30 06:24:09
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