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tickychao206银虫 (小有名气)
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【求助】AlN薄膜XRD测试结果分析求助 已有2人参与
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最近使用磁控溅射法制备了氮化铝薄膜可是XRD的结果却很奇怪，希望大家指点一二: 1,我试验的条件如下：选取的硅基片（100），在氢氟酸中除氧化物，然后在酒精和丙酮中超声清洗。抽真空到10-4Pa以下，开始溅射。 2.我的实验结果却让人很吃惊，在三台设备上做出来的xrd结果惊人的相似，描述如下：分别在33°，46°，54.6°，56.4°，61.8°有峰值，其中33°的峰值也不能叫峰值，就是一个跨度很大的弓形，最强峰在61.8°，这里面所有的峰值只有33°有对应AlN的峰值，其他的都对应不上，不知道什么原因，还有一个很奇怪的现象就是对Si的背面（没有做膜的一面）做了XRD发现也出现了以上的情况，可是峰值很弱几乎和背地差不多，只有61.8°较强，请高人指点。 |
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