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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 【请教】了解氨基修饰的虫友请进
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AgI2008

木虫 (著名写手)

[交流] 【请教】了解氨基修饰的虫友请进 已有6人参与

很多关于SiO2氨基修饰的文献，多数是采用在甲苯溶液里面回流，请问这是为什么呢？

我是想对合成的SiO2掺杂材料进行氨基修饰，关于掺杂SiO2修饰的文献比较少，刚刚涉及这个方面，不懂的地方很多，希望了解的朋友多多指点下

先谢过咯
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所谓门槛，迈过去就是门，没迈过去就是槛~
1楼 2010-06-16 09:12:32
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yetaieva

铁杆木虫 (著名写手)
AgI2008(金币+2):谢谢，(*^__^*) 2010-06-16 19:19:16
引用回帖:
Originally posted by AgI2008 at 2010-06-16 10:58:07:

为什么要选择无水条件呢？
其它的溶剂可以么~

反应体系中含水,一般都会在二氧化硅表面生成不规,则的多分子层,并且水解的APTS 与二氧化硅表面以及水解的APTS 分子之间的缩合反应难以控制. 溶剂可考虑非极性的有机溶剂
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4楼2010-06-16 13:00:46
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yetaieva

铁杆木虫 (著名写手)
AgI2008(金币+5):多谢解答 2010-06-16 10:58:50
在无水条件下APTS 经过吸附，缩合，加热固化，实现翻转
Linde H. J . Appl . Polym. Sci . , 1990 , 40 : 613 —622
Chu C W, Kirby D P , Murphy P D. J . Adhes. Sci . Technol . ,1993 , 7 : 417 —434
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2楼2010-06-16 10:24:50
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AgI2008

木虫 (著名写手)
引用回帖:
Originally posted by yetaieva at 2010-06-16 10:24:50:
在无水条件下APTS 经过吸附，缩合，加热固化，实现翻转
Linde H. J . Appl . Polym. Sci . , 1990 , 40 : 613 —622
Chu C W, Kirby D P , Murphy P D. J . Adhes. Sci . Technol . ,1993 , 7 : 417 —434

为什么要选择无水条件呢？
其它的溶剂可以么~
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所谓门槛，迈过去就是门，没迈过去就是槛~
3楼2010-06-16 10:58:07
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AgI2008

木虫 (著名写手)
引用回帖:
Originally posted by yetaieva at 2010-06-16 13:00:46:

反应体系中含水,一般都会在二氧化硅表面生成不规,则的多分子层,并且水解的APTS 与二氧化硅表面以及水解的APTS 分子之间的缩合反应难以控制. 溶剂可考虑非极性的有机溶剂

多谢解答~
ps：给出的文献你有电子版的么，能否传一份给我，多谢
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所谓门槛，迈过去就是门，没迈过去就是槛~
5楼2010-06-16 19:18:57
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