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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 【请教】ＸＰＳ测试中Ｃ峰的问题
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zuozhijun5134

至尊木虫 (文坛精英)
★
blackmail(金币+1):谢谢参与
你的样品本身带有C，那就可以清除表面的C所有的XPS都可以搞定的
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11楼2010-06-09 11:57:53
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blackmail

木虫 (正式写手)
引用回帖:
Originally posted by zuozhijun5134 at 2010-06-09 11:57:53:
你的样品本身带有C，那就可以清除表面的C所有的XPS都可以搞定的

怎么去除表面的C，是用离子溅射刻蚀吗？
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12楼2010-06-09 12:01:01
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zuozhijun5134

至尊木虫 (文坛精英)
blackmail(金币+1):问题是我的样品中的碳也是在表面，会不会被一起刻蚀掉，如果仅想去除污染碳，刻蚀深度是多少？ 2010-06-09 14:28:02
引用回帖:
Originally posted by blackmail at 2010-06-09 12:01:01:

怎么去除表面的C，是用离子溅射刻蚀吗？

是的，你让测试人员用低能量的
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13楼2010-06-09 13:58:30
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duke-007

木虫 (著名写手)
★
blackmail(金币+1):谢谢参与
blackmail(金币+1):EDS的探测深度太大，区分不出来是碳是在表面包覆还是和氧化铁简单混合。 2010-06-09 15:12:06
朋友 你可以做个EDS 就哦了呵呵
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14楼2010-06-09 14:45:39
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blackmail

木虫 (正式写手)
除了碳的污染峰，是不是氧的污染峰强度也很高，影响也比较大，从出来的结果看，Fe/O含量比明显偏低许多，不符合3/4的化学计量比
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15楼2010-06-09 15:17:38
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zuozhijun5134

至尊木虫 (文坛精英)
这种情况很难控制，只能是少时间的刻蚀
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16楼2010-06-09 16:57:49
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tina050582

木虫 (职业作家)
★
blackmail(金币+1):谢谢参与
污染C通常是CO2,它的XPS峰位比较高288左右
你的样品应该表面30s Ar离子刻蚀
再测
至于可能是什么来源的C
还是XPS分峰,比如285.6通常对应于C-C键

[ Last edited by tina050582 on 2010-6-10 at 16:19 ]
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水云风
17楼2010-06-09 18:15:31
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blackmail

木虫 (正式写手)
引用回帖:
Originally posted by tina050582 at 2010-06-09 18:15:31:
污染C通常是CO2,它的XPS峰位比较高288左右
你的样品应该表面30s Ar离子刻蚀
再测
至于可能是什么来源的C
还是XPS分峰,比如285.6通常对应于C-C键
286通常对应于C-N
288通常对应于C-O
分峰后的封面积比对应不 ...

我的纯Fe3O4样品中的 C 峰位置在284.8，不是你所说的污染C 288位置，是怎么回事？
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18楼2010-06-09 19:29:28
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tina050582

木虫 (职业作家)
我也不太懂

[ Last edited by tina050582 on 2010-6-10 at 16:17 ]
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水云风
19楼2010-06-10 09:15:25
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blackmail

木虫 (正式写手)
引用回帖:
Originally posted by tina050582 at 2010-06-10 09:15:25:
那还不简单吗 就是你的样品袋,或者测试时压片镊子的影响吧

我的样品是用塑料样品袋装的，难道这也有影响？测XPS到底应该怎么对样品处理了，影响因素这么多，又都很敏感。
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20楼2010-06-10 10:33:54
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