| 查看: 7681 | 回复: 29 | |||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | |||
[交流]
【请教】请问SiO2表面的羟基如何测定？ 已有14人参与
|
|||
| 请问下各位前辈，我想测下二氧化硅表面的羟基含量，请问可以用什么实验的方法？尽量详细一点，谢谢~ （二氧化硅是原样二氧化硅和我改性后的二氧化硅）。 |
回复此楼
★
长_风(金币+2): 2010-05-20 11:11:03
jason168(金币+1):鼓励交流 2010-05-20 17:55:29
长_风(金币+2): 2010-05-20 11:11:03
jason168(金币+1):鼓励交流 2010-05-20 17:55:29
|
这两篇文献可以看下！ 【9】 Contescu A, Vass M, Contescu C, Putyera K, Schwarz J. Acid buffering capacity of basic carbons revealed by their continuous pK distribution. Carbon 1998;36(3):247–58. 【10】 Salame II, Bandosz TJ. Surface chemistry of activated carbons: combining the results of temperature-programmed desorption, Boehm, and potentiometric titrations. J Colloid Interf Sci 2001;240(1):252–8. |
12楼2010-05-20 11:08:19
pengluowen
至尊木虫 (职业作家)
- 应助: 1 (幼儿园)
- 金币: 20540.9
- 散金: 203
- 红花: 6
- 帖子: 4395
- 在线: 814.2小时
- 虫号: 950328
- 注册: 2010-01-29
- 专业: 结构工程
2楼2010-05-19 18:54:34
3楼2010-05-19 20:06:49
hustsunboy
金虫 (正式写手)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 1195.7
- 散金: 50
- 红花: 2
- 帖子: 521
- 在线: 135.9小时
- 虫号: 374917
- 注册: 2007-05-18
- 性别: GG
- 专业: 催化化学
4楼2010-05-19 21:35:14
10