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【求助】AAO模板的去除
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carrot333
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【求助】AAO模板的去除
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用氢氧化钠去除AAO模板,把模板放入2M浓度的溶液中多久可以把模板去除干净?模板的厚度与放置时间有关系吗?
我所用的AAO模板是没有去除下面铝基底的,那放入氢氧化钠溶液中,下面铝与氢氧化钠会反应生成偏铝酸钠和氢气,对纳米线的最终形貌会有影响吗?
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1楼
2010-05-18 08:49:12
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qingang6180
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Originally posted by
carrot333
at 2010-05-19 13:44:46:
想请问你也在做这方面工作吗 ?
呵呵 曾搞过几年!
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6楼
2010-05-21 19:48:39
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lyingcylvia
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小木虫(金币
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一般用的是1M 氢氧化钠吧,时间与AAO制备很有关于,不同酸制备的时间是不同的,所以最好自己观察,看文献没用。
另外生产的偏氯酸钠和H2对产物没啥影响吧,一般先去除Al基底,再去除AAO
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2楼
2010-05-18 09:20:38
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carrot333
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如果先去除铝基底,那么长在铝基底上的纳米线就没有支撑点,在做AFM和SEM表征的时候会不会有点困难?模板一般在5个微米左右,以你的经验大概放在1M的氢氧化钠溶液中多久可以把模板去除?
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3楼
2010-05-18 20:26:03
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qingang6180
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LZ用的是AC方法吧?
一般来说不要用浓度太高的氢氧化钠,将其滴在模板表面即可,一般常温下15-20min
可以得到表面露出部分的纳米线。
如果要将纳米线完全露出的话,最好是先除去铝基,在将其浸泡在其中即可!
祝LZ马到成功!
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4楼
2010-05-18 22:19:29
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