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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 综合其他 » 【求助】AAO模板的去除
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carrot333

[交流] 【求助】AAO模板的去除 已有9人参与

用氢氧化钠去除AAO模板，把模板放入2M浓度的溶液中多久可以把模板去除干净？模板的厚度与放置时间有关系吗？
我所用的AAO模板是没有去除下面铝基底的，那放入氢氧化钠溶液中，下面铝与氢氧化钠会反应生成偏铝酸钠和氢气，对纳米线的最终形貌会有影响吗？
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1楼 2010-05-18 08:49:12
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qingang6180

金虫 (正式写手)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
LZ用的是AC方法吧？
一般来说不要用浓度太高的氢氧化钠，将其滴在模板表面即可，一般常温下15-20min
可以得到表面露出部分的纳米线。
如果要将纳米线完全露出的话，最好是先除去铝基，在将其浸泡在其中即可！
祝LZ马到成功！
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4楼2010-05-18 22:19:29
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lyingcylvia

金虫 (著名写手)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
一般用的是1M 氢氧化钠吧，时间与AAO制备很有关于，不同酸制备的时间是不同的，所以最好自己观察，看文献没用。
另外生产的偏氯酸钠和H2对产物没啥影响吧，一般先去除Al基底，再去除AAO
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痛并快乐着
2楼2010-05-18 09:20:38
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carrot333

如果先去除铝基底，那么长在铝基底上的纳米线就没有支撑点，在做AFM和SEM表征的时候会不会有点困难？模板一般在5个微米左右，以你的经验大概放在1M的氢氧化钠溶液中多久可以把模板去除？
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3楼2010-05-18 20:26:03
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carrot333

引用回帖:
Originally posted by qingang6180 at 2010-05-18 22:19:29:
LZ用的是AC方法吧？
一般来说不要用浓度太高的氢氧化钠，将其滴在模板表面即可，一般常温下15-20min
可以得到表面露出部分的纳米线。
如果要将纳米线完全露出的话，最好是先除去铝基，在将其浸泡在其中即可！
...

想请问你也在做这方面工作吗 ？
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5楼2010-05-19 13:44:46
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