| 查看: 5016 | 回复: 10 | |||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | |||
[交流]
【求助】求助关于XPS单质硅的峰偏移问题 已有6人参与
|
|||
|
咨询一困惑很久的问题，求牛人解答! 先上图  如图所示，绿色的的线是单晶硅硅表面Si2p的XPS图，高的峰是单质硅，特征峰在99.0ev,低的峰为硅表面的一层SiO2氧化层，特征峰在103.3ev. 蓝色的线为通过二氧化硅球和单晶硅摩擦磨损后的磨屑XPS图，这时在98ev处出现一个很小的峰，按道理说这里应该也是出现单质硅的特征峰，但是这个峰明显偏小了，只有98ev。我查了XPS的数据库，在98ev附近都没有Si2p图谱中所对应的物质。 因此我想问一下，引起这个峰偏移的原因是什么？什么因素可能导致单质峰的偏移？谢谢牛人解答~~~~ |
回复此楼» 猜你喜欢
实验室接单子
已经有3人回复
-
要不要辞职读博？
已经有5人回复
-
不自信的我
已经有10人回复
-
磺酰氟产物，毕不了业了！
已经有8人回复
-
求助:我三月中下旬出站，青基依托单位怎么办？
已经有10人回复
-
26申博（荧光探针方向，有机合成）
已经有4人回复
-
论文终于录用啦！满足毕业条件了
已经有26人回复
-
2026年机械制造与材料应用国际会议 （ICMMMA 2026）
已经有4人回复
-
Cas 72-43-5需要30g，定制合成，能接单的留言
已经有8人回复
-
北京211副教授，35岁，想重新出发，去国外做博后，怎么样？
已经有8人回复
11楼2022-01-08 17:47:32
2楼2010-05-17 17:40:29
3楼2010-05-18 09:22:50
yanghui_hust
木虫 (小有名气)
- 应助: 2 (幼儿园)
- 金币: 1647.3
- 红花: 2
- 帖子: 54
- 在线: 69.3小时
- 虫号: 989458
- 注册: 2010-04-05
- 性别: GG
- 专业: 催化化学
4楼2010-05-18 13:46:28