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luwei_6

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[交流] 【求助】JGP560反溅射清洗基片的问题已有1人参与

该系统在进样室的反溅射靶台上进行基片的溅射清洗，和射频靶使用同一个射频电源和匹配器。它的射频电源说明书上只说了要在使用时调节匹配器上的电容C1和C2使驻波比小于1.5，请问反溅清洗和正常的射频溅射的要求都一样么？我进行反溅清洗时驻波比相当大，入射功率大概15W的时候发射功率怎么调都在10W以上。
另外，偏压电源是干什么用的，怎么用？看说明书上说可以在镀膜时持续轰击基片，可在论坛上有人说是用来清洗溅射室的。偏压电源预热后加在功率只有电压升高，电流一点变化都没有，开启其他电源进行正常溅射时偏压电源也是这反应。到底该怎们弄啊？

[ Last edited by luwei_6 on 2010-4-17 at 12:41 ]

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