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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 电化学 » 电解合成 » 【求助】电镀层内部杂质含量如何进行分析
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liyan9796

金虫 (小有名气)

[交流] 【求助】电镀层内部杂质含量如何进行分析 已有2人参与

在电镀过程中，为保障镀层质量，会大量使用各种有机添加剂，这些添加剂的使用对提高电镀质量具有重要意义，但同时也会导致各种杂质和镀层金属共沉积，比如光亮镀镍，镀层中会有硫元素杂质存在，这些杂质的含量如何分析，还希望电镀行业的小虫们多多给予意见，万分感激！
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1楼 2010-03-30 15:20:58
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xdndn

木虫 (初入文坛)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
用ICP
先溶解，再测硫含量；
对于中间环节，要有空白样；
两个相减，就是镀层的硫含量
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8楼2010-09-03 12:43:32
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gyx2650

铁杆木虫 (正式写手)

一线
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
icp测溶液吧，镀层的话属于表面，用光电能谱测，如俄歇能谱或XPS
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使卵石臻于完美的，并非锤的打击，而是水的且歌且舞
3楼2010-03-30 19:55:46
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wang1221

禁虫 (正式写手)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
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4楼2010-03-30 20:03:17
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liyan9796

金虫 (小有名气)
从能谱分析而言，都存在检出限的问题，一般来说镀层里面杂质含量都是非常低的，用EDP、XPS和AES都比较难测到，不知道还有没有其他手段。
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5楼2010-03-31 11:14:23
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