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【求助】关于薄膜沉积速率的问题？
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我现在是用磁控溅射沉积非晶碳薄膜 现在的沉积参数跟以前的一模一样~ 为什么之前沉积一个小时的薄膜厚度都在100nm以上了 而现在沉积了1.5h却还只是20~30nm， 哪位大虾知道这是为什么呢？ 这个沉积速率差太多了~ 难道是我现在用的石墨靶材的问题~？ 具体问题出在哪里呢？ 本人非常着急~！！！ 谢谢您的指点迷津了~！！！ |
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