| 查看: 305 | 回复: 1 | |||
| 当前主题已经存档。 | |||
| 【有奖交流】积极回复本帖子,参与交流,就有机会分得作者 关莎莎 的 8 个金币 | |||
[交流]
【求助】做了一个纳米二氧化硅,红外谱图,请高手帮忙分析一下~~~
|
|||
帝夫
至尊木虫 (知名作家)
=一只小小啄木鸟=
- 应助: 21 (小学生)
- 贵宾: 5.127
- 金币: 17354.4
- 散金: 3977
- 红花: 87
- 沙发: 23
- 帖子: 5652
- 在线: 928.7小时
- 虫号: 763780
- 注册: 2009-05-05
- 性别: GG
- 专业: 配位化学
★ ★ ★ ★ ★
化学小工(金币+5):谢谢,但是你这个说明并不针对该红外光谱图,所以不能给你全部分数,希望认真给予帮助,依然谢谢 2010-03-30 22:48
关莎莎(金币+2): 2010-03-31 08:35
化学小工(金币+5):谢谢,但是你这个说明并不针对该红外光谱图,所以不能给你全部分数,希望认真给予帮助,依然谢谢 2010-03-30 22:48
关莎莎(金币+2): 2010-03-31 08:35
|
在1100cm-1处出现最大吸收峰,为Si—O—Si键的反对称伸缩振动;在801cm-1处出现Si—O—Si键的对称伸缩振动,在470cm-1 处出现Si—O—Si键的弯曲振动;在1634cm-1处出现的较弱吸收峰代表H-O-H的弯曲振动,估计是由于纳米SiO2在空气中放置后,表面吸附少量水引起的。值得注意的是,在963cm附近出现极弱的吸收峰,是Si—OH的弯曲振动吸收,由于经过高温烧结,Si—OH脱水成Si—O—Si,因此在红外图谱中几乎看不到明显的Si—0H吸收峰。上述红外图谱与纳米二氧化硅标准图谱一致。 |

2楼2010-03-29 18:32:31













回复此楼