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【求助】做了一个纳米二氧化硅，红外谱图，请高手帮忙分析一下~~~
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帝夫
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化学小工(金币+5):谢谢，但是你这个说明并不针对该红外光谱图，所以不能给你全部分数，希望认真给予帮助，依然谢谢 2010-03-30 22:48
关莎莎(金币+2): 2010-03-31 08:35
化学小工(金币+5):谢谢，但是你这个说明并不针对该红外光谱图，所以不能给你全部分数，希望认真给予帮助，依然谢谢 2010-03-30 22:48
关莎莎(金币+2): 2010-03-31 08:35
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在1100cm-1处出现最大吸收峰，为Si—O—Si键的反对称伸缩振动；在801cm-1处出现Si—O—Si键的对称伸缩振动，在470cm-1 处出现Si—O—Si键的弯曲振动；在1634cm-1处出现的较弱吸收峰代表H-O-H的弯曲振动，估计是由于纳米SiO2在空气中放置后，表面吸附少量水引起的。值得注意的是，在963cm附近出现极弱的吸收峰，是Si—OH的弯曲振动吸收，由于经过高温烧结，Si—OH脱水成Si—O—Si，因此在红外图谱中几乎看不到明显的Si—0H吸收峰。上述红外图谱与纳米二氧化硅标准图谱一致。 |
2楼2010-03-29 18:32:31
