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[交流]
【请教】有关多层膜Cu/Ni的XRD
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小博一直从事电沉积制备多层膜Ni/Cu的研究，前期做XRD的结果一直很规则，可是这次出现问题了，结果在如下，不知道怎么分析结果 第一个结果是未经过热处理的结果  第二个结果是500度12小时热处理的结果  第三个结果是750度12小时热处理的结果  这三个结果表明随着热处理温度的提高，峰位整体右移，特别要指出的就是衍射角60度是出现的峰值强度超高，基本超出所使用设备的要求，不知道什么原因所致，请朋友帮忙分析一下 [ Last edited by 在路上 on 2010-3-24 at 19:31 ] |
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