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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 金属 » 测试表征 » 【请教】有关多层膜Cu/Ni的XRD
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在路上

至尊木虫 (著名写手)

[交流] 【请教】有关多层膜Cu/Ni的XRD

小博一直从事电沉积制备多层膜Ni/Cu的研究，前期做XRD的结果一直很规则，可是这次出现问题了，结果在如下，不知道怎么分析结果

第一个结果是未经过热处理的结果


第二个结果是500度12小时热处理的结果



第三个结果是750度12小时热处理的结果




这三个结果表明随着热处理温度的提高，峰位整体右移，特别要指出的就是衍射角60度是出现的峰值强度超高，基本超出所使用设备的要求，不知道什么原因所致，请朋友帮忙分析一下

[ Last edited by 在路上 on 2010-3-24 at 19:31 ]
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1楼 2010-03-24 19:26:56
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太阳草

木虫 (职业作家)
沙发，顶一个
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2楼2010-03-25 16:21:11
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xiaoyewxy

银虫 (小有名气)
可能是在热处理过程中产生的
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3楼2010-03-27 07:33:39
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xiaoyewxy

银虫 (小有名气)
★
yusen_1982(金币+1):欢迎讨论！！ 2010-03-29 08:13
在路上(金币+1): 2010-03-29 15:49
可能是热处理过程中产生的微观应力所致，其某一峰强度高，则可能是热处理过程中的择优取向产生的。
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4楼2010-03-27 07:35:51
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doesun

新虫 (小有名气)
[quote]Originally posted by 在路上 at 2010-03-24 19:26:56:
小博一直从事电沉积制备多层膜Ni/Cu的研究，前期做XRD的结果一直很规则，可是这次出现问题了，结果在如下，不知道怎么分析结果

你的多层膜需要用TEM分析截面吗？国内第一家专业的TEM薄膜分析商Doesun.com，可以给你比学校更优惠的价格和更快捷的服务
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DOESUN中国首家透射电镜截面制样商 15800691931
5楼2010-03-28 16:41:30
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在路上

至尊木虫 (著名写手)
申请撤帖,问题解决
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6楼2010-03-29 15:50:31
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